(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211218585.5 (22)申请日 2022.10.06 (71)申请人 中科爱毕赛思 （常州） 光电科技有限 公司 地址 213000 江苏省常州市新北区华 山中 路23号 (72)发明人 徐志成　王福利　李光昊　 (74)专利代理 机构 常州市科佑新创专利代理有 限公司 32672 专利代理师 阮文沁 (51)Int.Cl. B08B 3/08(2006.01) B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 21/00(2006.01) (54)发明名称 一种用于分子束外延的衬底托板的清洗方 法及系统 (57)摘要 本发明属于半导体 设备技术领域， 具体涉及 一种用于分子束外延的衬底托板的清洗方法及 系统， 通过将衬底托板浸泡在混合溶液中； 将浸 泡过混合溶液的衬底托板进行超声水洗； 将衬底 托板清洗干净； 将清洗干净的衬底 托板浸泡在盐 酸中； 以及将 浸泡在盐酸中的衬底 托板清洗后进 行吹扫， 采用双氧水和氢氧化钠浸泡衬底托板， 避免了使用挥发性化学品， 大大减少了对操作人 员的健康影 响， 同时使用超声水洗配合化学浸泡 重复进行多次， 使衬底托板表 面最终可以达到高 的洁净程度， 有利于分子束外延半导体 薄膜生长 的材料质量。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 115365216 A 2022.11.22 CN 115365216 A 1.一种用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 包括： 将衬底托板浸泡在混合溶 液中； 将浸泡过混合溶 液的衬底托板进行超声水洗； 将衬底托板清洗 干净； 将清洗干净的衬底托板浸泡在盐酸中； 以及 将浸泡在盐酸中的衬底托板清洗后进行吹扫。 2.如权利要求1所述的用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 所述将衬底托板浸泡在混合溶 液中的方法包括： 将衬底托板放入聚四氟乙烯容器， 并在聚四氟乙烯容器中加入双氧水， 使双氧水没过 衬底托板后， 再加入氢 氧化钠， 使得衬底托板浸泡第一预设时间， 浸泡后放入纯 水过滤。 3.如权利要求2所述的用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 所述将浸泡过混合溶 液的衬底托板进行超声水洗的方法包括： 将过滤后的衬底托板放入 超声水洗 仪， 清洗第二预设时间。 4.如权利要求3所述的用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 所述将衬底托板清洗 干净的方法包括： 重复将衬底托板浸泡在 混合溶液中， 并将浸泡过混合溶液的衬底托板进行超声水洗预 设次数。 5.如权利要求 4所述的用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 所述将清洗 干净的衬底托板浸泡在盐酸中的方法包括： 将清洗干净的衬底托板放入聚四氟乙烯容器， 并在聚四氟乙烯容器加盐酸浸泡第 三预 设时间。 6.如权利要求5所述的用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 所述将浸泡在盐酸中的衬底托板清洗后进行吹扫的方法包括： 将浸泡在盐酸中的衬底托板放入 超声水洗 仪， 超声水洗第四预设时间； 将超声水洗的衬底托板放入乙醇溶 液中， 转移至超净工作台， 用氮气吹干并保存。 7.如权利要求1所述的用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 所述衬底托板适于采用钼 制成。 8.如权利要求1所述的用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 其特 征在于， 所述混合溶 液包括： 双氧 水和氢氧化钠。 9.一种用于分子束外延的衬底托板的清洗系统， 其特 征在于， 包括： 浸泡装置、 清洗装置和吹扫装置； 所述浸泡装置适于对衬底托板进行浸泡； 所述清洗装置适于对衬底托板进行清洗； 所述吹扫装置适于对衬底托板吹干并保存。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115365216 A 2一种用于分子束外延的衬底托板的清洗方 法及系统 技术领域 [0001]本发明属于半导体设备技术领域， 具体涉及一种用于分子束外延的衬底托板的清 洗方法及系统。 背景技术 [0002]分子束外延 （MB E） 技术是一种在半导体衬底上进行原子层量级精度半导体材料生 长的薄膜外延技术。 生长时， 半导体衬底被衬底 托板固定在生长腔 体中央， 源材料通过热蒸 发以分子束的形式进入生长腔 体， 在半导体衬底表面附着， 反应， 形成新的外延表面并叠层 生长。 为了保证外延材料的纯度及晶体质量， 生长腔 体需要保持超高真空状态， 外延表面也 需要维持清洁。 然而， 随着使用时间的增加， 腔 体内部游离的源材料分子逐渐在衬底托板上 累积， 最终形成固形物， 容易污染衬底边缘， 导致外延材料纯度低， 晶体质量差。 为了适应外 延过程中高温和超高真空的条件， 衬底托班由高纯热压钼板加工而成， 源材料成本昂贵， 不 适合一次性使用。 因此需要一种用于分子束外延的衬底托板的清洗方法， 使其可以被循环 使用。 [0003]目前传统的用于分子束外延的衬底托板清洗方法主要是使用酸性化学品清洗， 尤 其是含有大量氯及溴元 素的酸性溶液， 有毒且易挥发， 对人体的健康危害较大。 [0004]因此， 基于上述技术问题需要设计一种新的用于分子束外延的衬底托板的清洗方 法及系统。 发明内容 [0005]本发明的目的是提供一种用于分子束外延的衬底托板的清洗方法及系统。 [0006]为了解决上述技术问题， 本发明提供了一种用于分子束外延的衬底托板的清洗方 法， 包括： 将衬底托板浸泡在混合溶 液中； 将浸泡过混合溶 液的衬底托板进行超声水洗； 将衬底托板清洗 干净； 将清洗干净的衬底托板浸泡在盐酸中； 以及 将浸泡在盐酸中的衬底托板清洗后进行吹扫。 [0007]进一步， 所述将衬底托板浸泡在混合溶 液中的方法包括： 将衬底托板放入聚四氟乙烯容器， 并在 聚四氟乙烯容器中加入双氧水， 使双氧水 没过衬底托板后， 再加入氢氧化钠， 使得衬底托板浸泡第一预设时间， 浸泡后放入纯水过 滤。 [0008]进一步， 所述将浸泡过混合溶 液的衬底托板进行超声水洗的方法包括： 将过滤后的衬底托板放入 超声水洗 仪， 清洗第二预设时间。 [0009]进一步， 所述将衬底托板清洗 干净的方法包括： 重复将衬底托板浸泡在混合溶液中， 并将浸泡过混合溶液的衬底托板进行超声水说　明　书 1/4 页 3 CN 115365216 A 3