(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211496176.1 (22)申请日 2022.11.28 (71)申请人 南通百仕灵新能源科技有限公司 地址 226000 江苏省南 通市启东市汇龙镇 城北工业园区跃龙东路3号 (72)发明人 项飞　朱廷顺　冯艳玲　张银华　 李炯　何庆峰　裘艳琴　 (74)专利代理 机构 广州海藻专利代理事务所 (普通合伙) 44386 专利代理师 郑凤姣 (51)Int.Cl. G06T 7/00(2017.01) G06T 7/13(2017.01) (54)发明名称 一种电子元器件瑕疵检测方法 (57)摘要 本发明涉及缺陷识别技术领域， 具体涉及一 种电子元器件瑕疵检测方法。 该方法通过利用光 学手段采集片式电容图像， 通过片式电容图像中 表征的光学特征获得每个像素点的瑕疵可能性。 并以瑕疵可能性作为参考， 对采集片式电容图像 进行自适应下采样， 去除图像的无瑕疵区域， 保 留可能瑕疵区域， 获得最佳下采样图像。 对最佳 下采样图像进行增强， 对增强还原后的图像进行 边缘识别， 识别出是否存在渗边现象。 本发明实 施例通过光学特征， 利用自适应下采样操作获得 特征明显的图像， 进而实现准确的渗边缺陷检 测。 权利要求书2页 说明书7页 附图2页 CN 115546209 A 2022.12.30 CN 115546209 A 1.一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特 征在于， 所述方法包括： 采集片式电容图像； 以片式电容图像中每个像素点的明暗程度作为瑕疵可能性； 获得 片式电容图像中每列像素点的瑕疵可能性累加 值； 对片式电容图像执行下采样过程， 每次 下采样过程均会在片 式电容图像中删除瑕疵可能性累加 值最小的列并获得对应的下采样 图像； 根据下采样图像中每个像素点的瑕疵可能性筛选出瑕疵点， 并获得瑕疵信息占比； 若 瑕疵信息占比大于预设第一阈值， 则根据瑕疵点的坐标信息获得下采样图像中的瑕疵连续 性； 若瑕疵信息占比不大于预设第一阈值， 则继续执行下采样过程； 若瑕疵连续性大于预设 第二阈值， 则认为对应下采样图像为最佳下采样图像， 停止下采样过程； 若瑕疵连续性不大 于预设第二阈值， 则继续执 行下采样过程； 利用图像增强算法对最佳下采样图像进行增强， 获得增强下采样图像； 将增强下采样 图像进行上采样操作， 获得上采样图像， 上采样图像与片式电容图像的尺寸相同； 对上采样 图像进行边缘识别， 获得片 式电容端电极与介质之间的边缘线， 根据边缘线两侧像素点的 像素值相似程度判断片式电容是否出现渗 边现象。 2.根据权利要求1所述的一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特征在于， 所述明暗程度的 获取方法包括： 根据明暗程度公式获得片式电容图像中每个像素点相对于片式电容图像整体的明暗 程度， 明暗程度公式包括： 其中， 为明暗程度， 为自然常数， 为第i个像素点的像素值， 为片式电容图像中 像素点的数量， 为第j个像素点的像素值， u为第一拟合 参数； 若存在某个 像素点的明暗程度大于等于1， 则将对应 像素点的瑕疵可能性赋值 为0。 3.根据权利要求2所述的一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特征在于， 所述每次下采样 过程均会在片 式电容图像中删除瑕疵可能性累加 值最小的列并获得对应的下采样图像包 括： 根据每列对应的瑕疵可能性累加值从小到大进行排序， 获得删除优先级序列； 删除优 先级序列中的元素值为片 式电容图像中的列序号， 删除优先级序列中的元素序号越小， 对 应的删除优先级越大； 下采样过程 根据删除优先级， 依次删除片式电容图像中的一列像素。 4.根据权利要求2所述的一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特征在于， 所述根据 下采样 图像中每 个像素点的瑕疵可能性筛 选出瑕疵点包括： 将瑕疵可能性大于 0的像素点作为瑕疵点。 5.根据权利要求1所述的一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特征在于， 所述瑕疵信 息占 比获取方法包括： 以瑕疵点的数量与下采样图像中像素点总数量的比值作为瑕疵信息占 比。 6.根据权利要求1所述的一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特征在于， 所述瑕疵连续性权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115546209 A 2的获取方法包括： 在下采样图像中根据预设尺寸设置滑窗； 在下采样图像中滑窗从左上角像素点开始， 自左至右、 自上至下的进行滑动； 在每次滑动中， 若瑕疵点为滑窗中心点， 则将滑窗范围内 其他瑕疵点中瑕疵可能性最大的其他瑕疵点与 滑窗中心 点相连； 通过滑窗遍历整个下采样 图像， 获得被连接瑕疵点的数量； 将被连接瑕疵点的数量与瑕疵点总 数量的比值作为瑕疵 连续性。 7.根据权利要求1所述的一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特征在于， 所述利用图像增 强算法对最佳 下采样图像进行增强包括： 利用直方图均衡化对最佳 下采样图像进行增强。 8.根据权利要求1所述的一种电子元器件瑕疵检测方法， 其特征在于， 所述根据边缘线 两侧像素点的像素值相似程度判断片式电容是否出现渗 边现象包括： 若像素值相似程度大于等于预设第三阈值， 则认为片式电容出现了渗 边现象。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115546209 A 3