(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123361447.6 (22)申请日 2021.12.27 (73)专利权人 青岛理工大 学 地址 266033 山东省青岛市黄岛区嘉陵江 东路777号 (72)发明人 董浩　邵晶　孙树峰　张若兰　 韩素立　张丰云　李卓　王英明　 (74)专利代理 机构 济南圣达知识产权代理有限 公司 372 21 专利代理师 王磊 (51)Int.Cl. B23K 26/352(2014.01) B23K 26/082(2014.01) B23K 26/70(2014.01) (54)实用新型名称 一种氮化铝陶瓷表面微孔氧化层 图形化加 工装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种氮化铝陶瓷表面微孔 氧化层图形化加工装置， 包括激光器， 所述激光 器与准直镜、 扫描振镜、 场镜依次连接， 所述场镜 下方设有气浴反应 室， 气浴反应室内设有氮化铝 陶瓷。 激光由激光器输出， 依次经过准直镜、 扫描 振镜、 场镜， 产生会聚光束， 经过气浴反应室后光 束聚焦于待加工的氮化铝陶瓷的表 面， 形成微孔 氧化层。 本实用新型能够得到均匀、 表面平整无 气孔的高质量氧化层， 无需传统方法的后续图形 化工艺过程， 且提高了加工效率。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 216576067 U 2022.05.24 CN 216576067 U 1.一种氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 包括激光器， 所述激 光器与准直镜、 扫描振镜、 场镜依 次连接， 所述场镜下方设有气浴反应室， 气浴反应室内设 有氮化铝陶瓷。 2.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所 述气浴反应室内设有三轴运动平台， 三轴运动平台上设有氮化铝陶瓷。 3.根据权利要求2所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 三 轴运动平台设置 于气浴反应室外 部， 带动气浴 反应室和氮化铝陶瓷共同运动。 4.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所 述气浴反应室设有透明上盖 。 5.根据权利要求4所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所 述透明上盖为K9玻璃。 6.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所 述气浴反应室与气源 装置连接 。 7.根据权利要求6所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所 述气源装置上设有减压阀和阀门。 8.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所 述激光器通过控制系统与三轴运动平台连接 。 9.根据权利要求1所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所 述振镜包括X轴振镜和Y轴振镜 。 10.根据权利要求9所述的氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装置， 其特征在于， 所述X轴振镜和Y轴振镜垂直连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216576067 U 2一种氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加工装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及金属化加工技术领域， 具体涉及 一种在氮化铝陶瓷表面制备微孔 氧化层的图形化加工方法。 背景技术 [0002]公开该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解， 而不 必然被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已经成为本领域一般技术人员所公知的现 有技术。 [0003]氮化铝陶瓷是一种 综合性能良好， 具有广阔使用前景的新型陶瓷材料， 由于其本 身不导电， 将其应用于电子器件封装时需要将其表面附着一层金属(金属化),以便制备金 属线路。 然 而， 氮化铝陶瓷的浸润性很 差， 在表面 直接附着金属十分困难。 [0004]氮化铝陶瓷金属化常用的方法为直接覆铜法。 在空气中高温加热分解氮化铝， 使 氮化铝陶瓷表面产生氧化层， 将加热后的铜膜铺覆在 陶瓷表面。 但加热形成的氧化层孔隙 较大并伴 随裂纹产生， 这些缺陷会大大削弱了金属层的粘结强度， 也会减少覆铜氮化铝 陶 瓷板的热循环次数。 实用新型内容 [0005]为了克服上述问题， 本实用新型设计了一种氮化铝陶瓷表面微孔氧化层图形化加 工装置， 能够得到均匀、 表面平整 无气孔的高质量氧化层， 无需传统方法的后续图形化工艺 过程， 且提高了加工效率。 [0006]为实现上述目的， 本实用新型采用下述技术方案： 一种氮化铝陶瓷表面微孔氧化 层图形化加工装置， 包括激光器， 所述激光器与准直镜、 扫描振镜、 场镜依次连接， 所述场镜 下方设有气浴 反应室， 气浴 反应室内设有氮化铝陶瓷。 [0007]在一种典型实施方式中， 所述气浴反应室内设有三轴运动平台， 三轴运动平台上 设有氮化铝陶瓷； [0008]或者， 三轴运动平台设置于气浴反应室外部， 带动气浴反应室和氮化铝陶瓷共同 运动。 三轴运动平台用于控制待加工的氮化铝 陶瓷的位置， 使激光会聚于待加工的氮化铝 陶瓷表面的不同位置 。 [0009]在一种典型实施方式中， 所述气浴反应室设有透明上盖， 能够让激光透过， 照射于 氮化铝陶瓷表面。 进一步， 所述透明上盖为K9玻璃， 其目的是限制等离子体的发射， 使其产 生朝向工件的冲击波。 [0010]在一种典型实施方式中， 所述气浴反应室与气源装置连接， 输送氧气至气浴反应 室， 进一步， 所述气源装置上设有减压阀和阀门， 控制氧气的流速和流量， 实现氧化铝薄膜 的稳定制备。 [0011]在一种典型实施方式 中， 所述激光器通过控制系统与三轴运动平台连接 。 [0012]在一种典型实施方式中， 所述振镜包括X轴振镜和Y轴振镜， 两者共同作用可以提说　明　书 1/3 页 3 CN 216576067 U 3